Germany – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) – Elektronenstrahl-Lithographiesystem
awardedWalther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften · DE811209280
Value
unstated
Published
27 Oct 2026
Deadline
—
Type
award
38000000 · Laboratory, optical & precision equipment38341100 · Laboratory, optical & precision equipmentDE21H
Description
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Key facts
- Procedure
- open
- Contact
- Rudolf.Gross@wmi.badw.de
- Regime
- publicSector
- Category
- supplies
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Provenance
- Source
- ted-eu
- Notice id
- 741369-2026
- First seen
- 27 Oct 2026
- Last updated
- 27 Oct 2026
Licence EU reuse — Commission Decision 2011/833/EU ↗
Source: TED — Tenders Electronic Daily (ted.europa.eu), © European Union, reused under Commission Decision 2011/833/EU.
View at source ↗
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