Elektronenstrahl-Lithographiesystem
awardedWalther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
Read the notice at vergabe-de ↗
Value
unstated
Published
23 Oct 2026
Deadline
—
Type
award
38000000 · Laboratory, optical & precision equipment38341100 · Laboratory, optical & precision equipmentDE21H
Description
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Key facts
- Reference
- BAdW-WMI-2023-3
- Procedure
- open
- Lots
- 1
- Contact
- Walther-Meissner-InstitutRudolf.Gross@wmi.badw.de+48 89289-14201
- Regime
- publicSector
What a subscription adds to this notice
- The documents — every attachment, with its text extracted and searchable
- Qualification — the notice scored against your company profile
- Tracking and alerts — a pipeline for your bids, and the matching notices by email
- The API and MCP — the same record in your own tools and your AI assistant
Provenance
- Source
- vergabe-de
- Notice id
- 84f68018-7cc7-4f21-93c5-5ee508a13d40
- OCID
- ocds-mnwr74-503c00b7-8757-4dc9-b4e1-d88d0c11cd73
- First seen
- 26 Oct 2026
- Last updated
- 26 Oct 2026
Licence CC0 1.0 public domain dedication ↗
Source: Bekanntmachungsservice (oeffentlichevergabe.de), Beschaffungsamt des BMI — CC0 1.0.
View at source ↗
GET /api/v1/tenders/e103a16f-8293-43f7-8fd9-bc171ec50410The source notice is authoritative — verify deadlines and documents there before bidding.